Дълбоко почистваща маска за лице Gigi Acnon Pore Purifying Mask
- Характеристика
- Описание
- Начин на употреба
- Състав
-
Възраст:
18+
Марка: gigi
Серия: acnon
Група продукти: тоник за лице
Предназначение: почистване, свиване на пори, успокояване
Активни вещества: пептиди
Време на приложение: универсален
Пол: унисекс
Класификация: професионална
Тип кожа: комбинирана, мазна, проблемна
Държава производител: Израел
Направено в: Израел
Комбинираната, мазната и проблемната кожа се нуждаят от свиване на порите, успокояване и хидратация. Всичко това, заедно с усещане за мекота и комфорт, ще ви даде дълбоко почистваща маска за лице Gigi Acnon Pore Purifying Mask. Тя е израелски висококачествен козметичен продукт за кожа, склонна към омазняване и обриви. Маската на марката Gigi работи ефективно с каолин и цинк. Тя бързо тушира възпаленията и акнето. Убива бактериите.
Формулата лекува дерматологичните проблеми. Ретинолът избелва кожата и заличава пигментните петна. Екстракт от канадска огнена трева действа като антиоксидант. Маслото от чаено дърво тушира възпалителните процеси. Работата на мастните жлези се нормализира. Пептид-трипептид 1 регенерира, а цинков оксид, натриев сулфат, титанов диоксид и каолин дезинфекцират и успокояват. Витамин F се грижи за кожната бариера.
-
Нанесете маската на равномерен слой, като избягвате зоната около очите. Оставете за 10 мин. Изтрийте маската с мокра кърпа или салфетка с хладка вода. Маската може да се използва директно върху обриви. При точково нанасяне времето на експозиция е до 30 минути. След това изплакнете с вода и нанесете нощен крем от серията Acnon. Използвайте 1-2 пъти седмично.
-
Water (Aqua), Kaolin, PEG-6 Caprylic /Capric Glycerides, Zinc Oxide, Sulfur,Cetearyl Alcohol, Magnesium Aluminium Silicate, Titanium Dioxide, Ceteareth-20, Propylene Glycol, Glyceryl Stearate SE, Phenoxyethanol, Linoleic Acid, Benzyl Alcohol, Caprylyl Glycol, Dimethyl Isosorbide, Tocopheryl Acetate, Oleic Acid, Sodium Lauroyl Sarcosinate, Buylene Glycol, Chlorphenesin, Benzoic Acid, Xanthan Gum, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Oil, Tetrasodium EDTA, Hydroxypinacolone Retinoate, Epilobium Angustifolium Flower/Leaf/Stem Extract, Linolenic Acid, Sodium Hydroxide, Sodium Chloride, Tocopheryl, Sodium Benzoate, Sodium Metabisulfite, Dextran, Tripeptide-1.
Отлична маска за изсушаване, точно като цялата линия Acnon. Използвах я в комбинация с почистващият гел/тоника/крем за ден/крем за нощ. Много съм доволен/доволна. Ще продължа да я използвам.